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通流量(峰值電流)Im
通流容量(kA)也稱通流量,是指在規(guī)定的條件(規(guī)定的時(shí)間間隔和次數(shù),施加標(biāo)準(zhǔn)的沖擊電流)下,允許通過(guò)壓敏電阻器上的脈沖(峰值)電流值。目前大多數(shù)廠家在說(shuō)明書(shū)中通常給出兩個(gè)通流量指標(biāo),一個(gè)是沖擊一次的指標(biāo),另一個(gè)是沖擊兩次(間隔5分鐘)的指標(biāo)。
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ZnO是六方晶系纖鋅礦結(jié)構(gòu),其化學(xué)鍵處于離子鍵與共價(jià)鍵的中間鍵型狀態(tài),氧離子以六方密堆,鋅離子占據(jù)一半的四面體空隙,鋅和氧都是四面體配位。ZnO是相對(duì)開(kāi)放的晶體結(jié)構(gòu),開(kāi)放的結(jié)構(gòu)對(duì)缺陷的性質(zhì)及擴(kuò)散機(jī)制有影響,所有的八面體間隙和一半的四面體間隙是空的,正負(fù)離子的配位數(shù)均為4,所以容易引入外部雜質(zhì),ZnO熔點(diǎn)為2248,密度為5.6g/cm3,純凈的ZnO晶體,其能帶由02-的滿的2p電子能級(jí)和Zn2+的空的4s能級(jí)組成,禁帶寬度為3.2~3.4eV,因此,室溫下,滿足化學(xué)計(jì)量比的純凈ZnO應(yīng)是絕緣體,而ZnO中常見(jiàn)的缺陷是金屬填隙原子,所以它是金屬過(guò)剩(Zn1+xO)非化學(xué)計(jì)量比n型半導(dǎo)體。
Eda等認(rèn)為,在本征缺陷中,填隙鋅原子擴(kuò)散快,對(duì)壓敏電阻穩(wěn)定性有很大影響。
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ZnO 壓敏電阻的微觀結(jié)構(gòu)分析發(fā)現(xiàn),形成的四個(gè)主要 成分是 ZnO、尖晶石、焦綠石和一些富?。拢椤∠啵▓D?。常?。圖 中也指明了組分存在的部位,還存在一些用現(xiàn)有技術(shù)尚不 易檢測(cè)出來(lái)的其它次要相。 ZnO 壓敏電阻的典型晶粒尺寸在15和20μm 之間, 并且也總是伴有雙晶。SiO2的存在抑制晶粒生長(zhǎng),而 TiO2 和?。拢幔稀t加速晶粒長(zhǎng)大。尖晶石和焦綠石相對(duì)晶粒長(zhǎng)大有 抑制作用。焦綠石相在低溫時(shí)起作用,而尖晶石相在高溫 時(shí)有利。當(dāng)用鹽酸浸蝕晶粒時(shí),中間相呈現(xiàn)出在電性上絕 緣的三維網(wǎng)絡(luò)。 燒結(jié)形成的?。冢睿稀【ЯJ恰。冢睿稀好綦娮璧幕緲?gòu)成單純?。冢睿稀∈蔷哂芯€性 I-U 特性的非化學(xué)計(jì)量?。睢⌒桶雽?dǎo) 體。進(jìn)入 ZnO 中的各種添加物使其具有非線性。這些氧 化物中主要是 Bi 2O3。這些氧化物的引入,在晶粒和晶粒 邊界處形成原子缺陷,施主或類施主缺陷支配著耗盡層, 而受主和類受主缺陷支配著晶粒邊界狀態(tài)。相關(guān)的缺陷類 型是鋅空位(V Zn'、V Zn'')、氧空位(V o 、V o )、填隙鋅
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